基板处理装置

摘要

本发明提供了一种基板处理装置，其包括：处理腔室，在其中执行关于基板的处理；初级腔室，其连接至处理腔室并具有供基板进出的通道；阻挡板，其将初级腔室的内部分成保持区和传送区；基板保持件，在其上加载有至少一个基板，能切换进入加载位置和处理位置，在加载位置，基保持件被布置在保持区，在处理位置，基板保持件被布置在处理腔室；基板传送单元，其将基板保持件从加载位置传送至处理位置，并包括连接至基板保持件的传送臂及操作传送臂的驱动器；气体供应口，其将惰性气体供应至初级腔室中；和下排气口，其连接至传送区并布置在气体供应口的上方以排出初级腔室内部的气体。下排气口布置成相比于距初级腔室的顶面更靠近初级腔室的底面。

主权项

一种基板处理装置，该基板处理装置包括：处理腔室，在该处理腔室中执行关于基板的处理；初级腔室，该初级腔室连接至所述处理腔室，所述初级腔室具有供所述基板进出的通道；阻挡板，该阻挡板将所述初级腔室的内部分隔成保持区和传送区；基板保持件，在该基板保持件上加载有至少一个基板，所述基板保持件能切换进入加载位置和处理位置，在所述加载位置，所述基保持件被布置在所述保持区，在所述处理位置，所述基板保持件被布置在所述处理腔室；基板传送单元，该基板传送单元将所述基板保持件从所述加载位置传送至所述处理位置，所述基板传送单元包括连接至所述基板保持件的传送臂以及操作该传送臂的驱动器；气体供应口，该气体供应口将惰性气体供应至所述初级腔室中；以及下排气口，该下排气口连接至所述传送区并且布置在所述气体供应口的上方，以排出所述初级腔室内部的气体，其中，所述下排气口被布置成相比于距所述初级腔室的顶面更靠近所述初级腔室的底面。