发明名称 |
一种用于ITO/Ag/ITO薄膜的低张力的蚀刻液 |
摘要 |
本申请公开了一种用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的低张力的蚀刻液,该蚀刻液由总重量10%~30%的醋酸、1%~20%的硝酸、40%~70%的磷酸、0.1~0.5%的表面活性剂和0.1~5%的硝酸盐组成,余量为去离子水。本申请的蚀刻液,合理调配各组分及用量,使蚀刻液表面张力低,能有效渗透、浸润到需要蚀刻部位,提高蚀刻效率,同时,提高蚀刻角度的准确性。并且,本申请的蚀刻液,能有效的对银含量超过80%的ITO/Ag/ITO进行蚀刻。本申请的蚀刻液腐蚀力相对较低,能够在温和的条件下进行蚀刻,且蚀刻后不会有残渣、线条平整、蚀刻均匀;适合用于高精度图案的ITO/Ag/ITO多层薄膜的蚀刻。 |
申请公布号 |
CN104893728A |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201510169664.5 |
申请日期 |
2015.04.10 |
申请人 |
深圳新宙邦科技股份有限公司 |
发明人 |
康威;梁作;赵大成;陈昊 |
分类号 |
C09K13/06(2006.01)I |
主分类号 |
C09K13/06(2006.01)I |
代理机构 |
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 |
代理人 |
彭家恩;彭愿洁 |
主权项 |
一种用于ITO/Ag/ITO多层薄膜的低张力的蚀刻液,其特征在于:所述蚀刻液由总重量10%~30%的醋酸、1%~20%的硝酸、40%~70%的磷酸、0.1~0.5%的表面活性剂和0.1~5%的硝酸盐组成,余量为去离子水。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区沙坣同富裕工业区 |