等离子体处理的方法

摘要

一种等离子体处理的方法，包括：预先获取第一频率，所述第一频率为第一等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；预先获取第二频率，所述第二频率为第二等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；对待处理基底进行第一等离子体处理，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第一频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配；对待处理基底进行第二等离子体处理，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第二频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配。所述等离子体处理的方法能够保持等离子体稳定，避免等离子体熄灭的问题。

主权项

一种等离子体处理的方法，其特征在于，包括：提供待处理基底、等离子体处理装置以及外部控制单元，所述等离子体处理装置具有可变频功率源，所述外部控制单元与可变频功率源连接，所述待处理基底置于等离子体处理装置的反应腔内；预先获取第一频率，所述第一频率为第一等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；预先获取第二频率，所述第二频率为第二等离子体处理过程中，可变频功率源与反应腔阻抗匹配时可变频功率源的输出频率；对所述待处理基底进行第一等离子体处理，通入第一反应气体到反应腔内，可变频功率源输出第一射频功率到反应腔，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第一频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配；进行所述第一等离子体处理后，对所述待处理基底进行第二等离子体处理，通入第二反应气体到反应腔内，可变频功率源输出第二射频功率到反应腔，同时通过外部控制单元使可变频功率源的输出频率为第二频率，使可变频功率源与反应腔阻抗匹配。