一种在CuCr触头表面形成CuCr涂层的电弧离子镀方法

摘要

本发明涉及一种在CuCr触头表面形成CuCr涂层的电弧离子镀方法，属于表面工程领域。以CuCr材料作为靶材，采用电弧离子镀工艺，在CuCr触头表面获得均匀、致密的纳米CuCr涂层。本发明的方法可以通过靶材数量和镀膜时间来控制涂层厚度，通过靶材的Cr含量控制涂层成分，且靶材的Cr含量不受限制。由本发明方法的电弧离子镀获得的CuCr涂层，不仅可以提高触头材料的表面粗糙度，还可以避免机加工产生的毛刺对其开断性能的影响。

主权项

一种在CuCr触头表面形成CuCr涂层的电弧离子镀方法，其特征在于包括：1)将CuCr触头依次浸入盛有碳氢清洗剂与酒精的槽中，进行超声波振动清洗，清洗完成后将CuCr触头送入烘道进行热风风干；2)将经步骤1)处理的CuCr触头置于配有电弧的镀膜机的真空腔体之内，抽真空至1.5×10^‑2Pa以下，通入氩气作为离化气体至20‑25Pa，打开脉冲偏压电源，辉光放电5‑10min产生等离子体，对CuCr触头表面进行活化清洗；3)清洗完毕后沉积Cr过渡层，选用Cr柱靶作为电弧离子镀靶材，先将其用丙酮清洗去除油污和杂质，靶基距离为100‑120mm，以氩气作为离化气体，基体附加负偏压450‑550V，由辉光放电10‑15min，沉积Cr过渡层后关闭；4)电弧离子镀靶材选择CuCr，加工成62mm×40mm的水冷弧靶材，靶材数量为2‑5个，先将其用丙酮清洗去除油污和杂质，靶基距离均为150‑165mm，接通弧光电源，引弧钩与靶材之间产生弧光放电，单靶工作电流为50‑70A，电弧蒸发出的靶材粒子沉积在CuCr触头表面，形成均匀镀覆的CuCr涂层，时间80‑100min，由镀膜厚度而定；5)进行退火处理，然后自然冷却至室温即可。