| 发明名称 | 一种纳米压印易脱模方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种纳米压印易脱模方法，该脱模方法的特点是不一次性直接将印章和胶体分开，而是提拉与下压结合分阶段进行，具体工艺步骤如下：a、将印章向上提拉印章腔体或凸起高度的三分之一；b、将印章下压，与胶体再次完全接触；c、将印章再次向上提拉印章腔体或凸起高度的三分之二；d、将印章下压，与胶体再次完全接触；e、将印章向上提拉直至完全脱模。本发明工艺过程比较简单方便，而且有利于纳米压印时脱模。 | ||
| 申请公布号 | CN104898371A | 申请公布日期 | 2015.09.09 |
| 申请号 | CN201510355304.4 | 申请日期 | 2015.06.25 |
| 申请人 | 河海大学常州校区 | 发明人 | 孙洪文;卞存康;马晓超;虎晨辉 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 刘艳艳;董建林 |
| 主权项 | 一种纳米压印易脱模方法，其特征在于：不一次性直接将印章和胶体分开，而是提拉与下压结合分阶段进行。 | ||
| 地址 | 213022 江苏省常州市晋陵北路200号 | ||