| 发明名称 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于阵列基板技术领域，其可解决现有的阵列基板中的存储电容的面积不足，电容值小的问题。本发明的阵列基板包括：薄膜晶体管，包括有源区、源漏极、栅极；设于所述有源区下方的由导电材料构成的遮光结构；存储电容，包括间隔且相对设置的第一极片和第二极片；所述第一极片与遮光结构同层设置，所述第二极片与有源区、源漏极、栅极中的任意一种同层设置。 | ||
| 申请公布号 | CN104900655A | 申请公布日期 | 2015.09.09 |
| 申请号 | CN201510175829.X | 申请日期 | 2015.04.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 辛燕霞;杨玉清;杨小飞 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括：薄膜晶体管，包括有源区、源漏极、栅极；设于所述有源区下方的由导电材料构成的遮光结构；存储电容，包括间隔且相对设置的第一极片和第二极片；其特征在于，所述第一极片与遮光结构同层设置，所述第二极片与有源区、源漏极、栅极中的任意一种同层设置。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||