发明名称 |
一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置,以解决现有技术的有机电致发光显示装置的阵列基板制备工艺中,对非显示区内的阴极层进行刻蚀时会导致源漏极金属层被损坏的问题。阵列基板包括显示区和除显示区之外的非显示区,方法包括:在衬底基板上形成源漏极金属层,所述源漏极金属层包括位于所述显示区的薄膜晶体管的源电极和漏电极、以及位于所述非显示区的第一电极;在所述源漏极金属层之上形成保护层,使所述非显示区的所述保护层的厚度小于所述显示区的所述保护层的厚度;在所述保护层之上形成阴极层,去除位于所述非显示区的所述阴极层;去除位于所述非显示区的所述保护层。 |
申请公布号 |
CN104900656A |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201510263070.0 |
申请日期 |
2015.05.21 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
刘政;李栋;李小龙 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种阵列基板的制备方法,所述阵列基板包括显示区和除显示区之外的非显示区,其特征在于,方法包括:在衬底基板上形成源漏极金属层,所述源漏极金属层包括位于所述显示区的薄膜晶体管的源电极和漏电极、以及位于所述非显示区的第一电极;在所述源漏极金属层之上形成保护层,使所述非显示区的所述保护层的厚度小于所述显示区的所述保护层的厚度;在所述保护层之上形成阴极层,去除位于所述非显示区的所述阴极层;去除位于所述非显示区的所述保护层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |