发明名称 SYSTEMS AND METHODS FOR TARGET MATERIAL DELIVERY IN A LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE
摘要 <p>회전축과 원의 둘레를 형성하는 회전 표면을 가진 EUV 반사 광학기기를 구비하는 디바이스가 본문에 개시된다. 상기 광학기기는 수평면에 대해 0이 아닌 각도로 축을 경사지게하고 상기 수평면에 그리고 영역을 경계를 짓는 둘레 프로젝션으로 상기 수평면에서 수직의 둘레 프로젝션을 구축하도록 배치된다. 상기 디바이스는 타겟 물질 전달 시스템을 더 포함하고, 상기 시스템은 수평면과 상기 영역의 외부에 배치되고, 둘레 프로젝션에 의해 경계 지어진 타겟 물질 배출 포인트를 가지고, EUV 방출을 생성하기 위해 타겟 물질을 조사하는 레이저 빔을 생성한다.</p>
申请公布号 KR101551751(B1) 申请公布日期 2015.09.09
申请号 KR20107022434 申请日期 2009.02.17
申请人 发明人
分类号 G21K5/00;G21K5/04 主分类号 G21K5/00
代理机构 代理人
主权项
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