| 发明名称 | 有机无机复合体及其形成用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的有机无机复合体是使用含有以下a）～c）的成分的有机无机复合体形成用组合物制作的。a）有机硅化合物和/或其缩合物，所述有机硅化合物是由式（I）R<sub>n</sub>SiX<sub>4-n</sub>表示的至少1种、且Si1与Si2的摩尔比（Si1:Si2）为8:2～10:0；b）电磁辐射固化性化合物；以及c）金属化合物粒子；上述Si1是由Fedors的推算法求出的R的溶解度参数（SP1）小于由Fedors的推算法求出的电磁辐射固化性化合物的溶解度参数（SP2）且其差为2.0以上的有机硅化合物，上述Si2是SP1小于SP2且其差小于2.0的有机硅化合物、或SP1大于SP2的有机硅化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN103781804B | 申请公布日期 | 2015.09.09 |
| 申请号 | CN201280038412.3 | 申请日期 | 2012.08.08 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 山手太轨 |
| 分类号 | C08F2/44(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I | 主分类号 | C08F2/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 苗堃;金世煜 |
| 主权项 | 一种有机无机复合体形成用组合物，其特征在于，含有：a)有机硅化合物和/或其缩合物，所述有机硅化合物是由式(I)表示的至少1种、且Si1与Si2的摩尔比Si1:Si2为8:2～10:0；b)电磁辐射固化性化合物；以及c)作为金属氧化物的等电点小于5的金属化合物粒子与作为金属氧化物的等电点大于5的金属化合物粒子的混合物；R<sub>n</sub>SiX<sub>4‑n</sub>···(I)式(I)中，R表示碳原子直接键合于Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团，n表示1或2，n为2时各R相同或不同，4‑n为2以上时各X相同或不同，所述Si1是由Fedors的推算法求出的R的溶解度参数SP1小于由Fedors的推算法求出的电磁辐射固化性化合物的溶解度参数SP2且其差为2.0以上的有机硅化合物，所述Si2是SP1小于SP2且其差小于2.0的有机硅化合物、或SP1大于SP2的有机硅化合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||