发明名称 |
基于水解反应气相均匀沉积TiO<sub>2</sub>薄膜的方法 |
摘要 |
本发明公开一种基于水解反应气相均匀沉积TiO<sub>2</sub>薄膜的方法,其特征在于通过沉积头(3)的中心出气口(4)和两侧出气口(5),分别将含有钛前驱物和水蒸气的气流,输送至相对匀速移动的基底(1)表面,钛前驱物和水蒸气在基底表面发生反应,均匀沉积形成TiO<sub>2</sub>薄膜。可在大气压和低温(10~100℃)下气相均匀沉积TiO<sub>2</sub>薄膜,所制备的TiO<sub>2</sub>薄膜是一种富含羟基的无定形结构,无需任何后续热处理在紫外光辐照下具有较高光催化活性,不仅具有沉积速率快、均匀性好、工艺和装置简单、操作方便等优点,而且还可节省能量、降低制作成本,可适用于各种材质的基底,尤其适用于非耐热材质的基底。 |
申请公布号 |
CN103498132B |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201310415632.X |
申请日期 |
2013.09.13 |
申请人 |
大连理工大学 |
发明人 |
朱爱民;朱晓兵;李小松;石川 |
分类号 |
C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/40(2006.01)I |
代理机构 |
大连非凡专利事务所 21220 |
代理人 |
闪红霞 |
主权项 |
一种基于水解反应气相均匀沉积TiO<sub>2</sub>薄膜的方法,其特征在于通过沉积头(3)的中心出气口(4)和两侧出气口(5),分别将含有钛前驱物和水蒸气的气流,输送至相对匀速移动的基底(1)表面,钛前驱物和水蒸气在基底表面发生反应,均匀沉积形成TiO<sub>2</sub>薄膜;按如下步骤进行:a. 在大气压下,将基底(1)置于支撑台(2)上,基底(1)的温度为10~100℃,在所述基底(1)上方设置沉积头(3),支撑台(2)与沉积头(3)以10~200 mm/min的速度沿水平方向相对运动;b. 所述沉积头(3)上有竖直并列的中心出气口(4)和两侧出气口(5),中心出气口(4)和两侧出气口(5)的气隙宽度为0.5~15 mm;中心出气口(4)和两侧出气口(5)距基底(1)0.1~5 mm;c. 以惰气为载气、钛前驱物分压为10~500 Pa的气流以线速度为0.02~0.6 m/s从中心出气口(4)流出;以空气、氧气或惰气为载气、水蒸气分压为0.5~5 kPa的气流以线速度为0.02~0.6 m/s从两侧出气口(5)流出。 |
地址 |
116000 辽宁省大连市高新园区凌工路2号 |