基板处理装置及方法

摘要

本发明提供基板处理装置及方法。基板处理装置包括工序腔室、支撑单元、挡板、气体供应部、电浆产生部以及阻塞构件等。支撑单元包括基座及陶瓷环。在基座的顶部形成有压纹，从而使安装用带与基座之间的空气排出顺畅以防止静电。在陶瓷环上，部分地提供借助垫片而形成之间隙及引导部，从而使安装用带与基座之间的空气排出顺畅。阻塞构件在利用电浆进行的工序期间，使框架环受覆盖而安装用带暴露，从而防止框架环的变性，去除安装用带的表面残留的接合剂。

主权项

一种基板处理装置，包括：工序腔室，该工序腔室内部形成有空间；支撑单元，该支撑单元位于所述工序腔室内部以支撑处理对象物；以及气体供应部，该气体供应部向所述工序腔室内部供应工序气体；且所述支撑单元包括：基座；以及陶瓷环，该陶瓷环系以环绕所述基座的方式配置；该基板处理装置还包括垫片，该垫片用于在放置于所述支撑单元中的所述处理对象物与所述陶瓷环之间形成间隙。