发明名称 TFT布局结构
摘要 本发明提供一种TFT布局结构,包括受同一控制信号线控制的第一薄膜晶体管(T1)、与第二薄膜晶体管(T2);第一薄膜晶体管(T1)的第一有源层(SC1)、与第二薄膜晶体管(T2)的第二有源层(SC2)位于不同层别,并在空间上层叠设置,第一薄膜晶体管(T1)的第一源极(S1)、及第一漏极(D1)接触第一有源层(SC1),第二薄膜晶体管(T2)的第二源极(S2)、及第二漏极(D2)接触第二有源层(SC2);第一薄膜晶体管(T1)的底栅极层(Bottom Gate)位于第一有源层(SC1)下方,第二薄膜晶体管(T2)的顶栅极层(Top Gate)位于第二有源层(SC2)上方。该TFT布局结构能够缩小电路布局的空间,提升电路布局的灵活度,满足显示面板窄边框、及高分辨率的要求。
申请公布号 CN104900653A 申请公布日期 2015.09.09
申请号 CN201510175497.5 申请日期 2015.04.14
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 韩佰祥;石龙强
分类号 H01L27/12(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种TFT布局结构,其特征在于,包括受同一控制信号线控制的第一薄膜晶体管(T1)、与第二薄膜晶体管(T2);所述第一薄膜晶体管(T1)包括底栅极层(Bottom Gate)、第一有源层(SC1)、第一源极(S1)、及第一漏极(D1),所述第二薄膜晶体管(T2)包括第二有源层(SC2)、第二源极(S2)、第二漏极(D2)、及顶栅极层(Top Gate);所述第一有源层(SC1)、与第二有源层(SC2)位于不同层别,并在空间上层叠设置,所述第一源极(S1)、及第一漏极(D1)接触第一有源层(SC1),所述第二源极(S2)、及第二漏极(D2)接触第二有源层(SC2);所述底栅极层(Bottom Gate)位于第一有源层(SC1)下方,所述顶栅极层(Top Gate)位于第二有源层(SC2)上方,所述底栅极层(Bottom Gate)、与顶栅极层(Top Gate)均电性连接所述控制信号线以分别控制第一薄膜晶体管(T1)、与第二薄膜晶体管(T2)的打开与关闭。
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号