四氟化硅气体中杂质碘的净化方法

摘要

本发明公开了四氟化硅气体中杂质碘的净化方法，包括：①收集湿法处理磷矿石过程中产生的含氟气体，并将此气体引入一加有硫酸和二氧化硅的反应器中，使其中的HF转化为SiF₄气体； 或将氟硅酸与浓硫酸混合加热，将产生的气态化合物引入一装有浓硫酸的容器中，除去杂质，得到SiF₄气体；②将得到的气体引入净化槽，用浓硫酸或浓硫酸与氢氟酸的混合物除去气体中的水分和含氧氟硅化物；③SiF₄气体依次进入装有预先干燥过的活性炭、硅藻土的过滤器中过滤其中杂质；④将净化的SiF₄气体引入冷冻装置，冷冻除去HI及I₂。本方法利用磷肥工业副产物氟硅酸分解生产高纯度四氟化硅，为电子、光伏、光纤行业提供生产硅系列产品的高纯原料。

主权项

四氟化硅气体中杂质碘的净化方法，其特征包括如下步骤：第一步，收集湿法处理磷矿石过程中产生的包括氟化氢、四氟化硅的含氟气体，并将此含氟气体引入一加有硫酸和二氧化硅的反应器中，使含氟气体中的氟化氢转化为四氟化硅气体； 或将氟硅酸与浓硫酸混合加热，产生气态化合物，再将气态化合物引入一装有浓硫酸的容器中，除去HF、水份杂质，得到四氟化硅气体；第二步，将第一步得到的四氟化硅气体引入净化槽，用浓硫酸或浓硫酸与氢氟酸的混合物除去气体中的水分和含氧氟硅化物；第三步，四氟化硅气体依次进入装有预先干燥过的活性炭、硅藻土的过滤器中过滤其中杂质；第四步，将上述步骤净化后的SiF₄气体引入冷冻装置，冷冻除去HI以及I₂；所述冷冻装置是一个带有真空层和密封盖的罐，罐为装有冷冻剂的冷冻室，密封盖的上方有气体管道，其中通入SiF₄气体，冷冻剂依靠管壁吸收SiF₄的热量达到冷冻去除碘的目的；所述冷冻温度为‑85℃～‑40℃，所述冷冻时间1～10 min。