发明名称 一种锡铋合金薄镀层中铋含量的测试方法
摘要 本发明涉及一种锡铋合金薄镀层中铋含量的测试方法,解决了目前技术无法对镀层中铋含量进行准确、有效测量的问题。在相同条件、相同时间内,采用与零件相同材质的纯金属箔和零部件进行同槽电镀锡铋合金,这样它们的镀层情况相同,通过检测纯金属箔增加的重量及镀后纯金属箔中的铋含量,间接检测零部件镀层中铋的含量,纯金属箔中的铋含量采用电感耦合等离子体发射光谱法进行测定,按下式计算出纯金属箔镀层中铋含量:<img file="DSA0000117952960000011.GIF" wi="596" he="166" />式中:m1:纯金属箔镀前的质量,单位为g,m2:纯金属箔镀后的质量,单位为g,v:测试溶液中铋的浓度,μg/ml,计算出的纯金属箔镀层中铋含量即为零部件镀层中的铋含量。通过本方法可测定薄镀层中铋元素的准确含量。
申请公布号 CN104897506A 申请公布日期 2015.09.09
申请号 CN201510324915.2 申请日期 2015.06.15
申请人 内蒙古第一机械集团有限公司 发明人 张伟东;李建梅;王慧清;张杰;彭卫刚;杨建军;郝静;石宝文;李树梅;周春丽;武雪峰;马京山;刘芳
分类号 G01N5/00(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I 主分类号 G01N5/00(2006.01)I
代理机构 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人 刘东升
主权项 一种锡铋合金薄镀层中铋含量的测试方法,其特征是:在相同条件、相同时间内,采用与零件相同材质的纯金属箔和零部件进行同槽电镀锡铋合金,这样它们的镀层情况相同,通过检测纯金属箔增加的重量及镀后纯金属箔中的铋含量,间接检测零部件镀层中铋的含量,纯金属箔中的铋含量采用电感耦合等离子体发射光谱法进行测定,按下式计算出纯金属箔镀层中铋含量:<maths num="0001" id="cmaths0001"><math><![CDATA[<mrow><mi>w</mi><mo>%</mo><mo>=</mo><mfrac><mrow><mn>100</mn><mo>&times;</mo><mi>v</mi></mrow><mrow><msub><mi>m</mi><mn>2</mn></msub><mo>-</mo><msub><mi>m</mi><mn>1</mn></msub></mrow></mfrac><mo>&times;</mo><mn>100</mn></mrow>]]></math><img file="FSA0000117952970000011.GIF" wi="561" he="134" /></maths>式中:m<sub>1</sub>:纯金属箔镀前的质量,单位为gm<sub>2</sub>:纯金属箔镀后的质量,单位为gv:测试溶液中铋的浓度,单位为μg/ml,计算出的纯金属箔镀层中铋含量即为零部件镀层中的铋含量。
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