发明名称 |
多结叠层电池及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种多结叠层电池,包括一衬底、一InGaN基电池膜层与一III-V族多结电池膜层,所述衬底置于所述III-V族多结电池膜层的裸露表面,所述InGaN基电池膜层与III-V族多结电池膜层之间通过键合方式以连接。本发明还提供一种多结叠层电池的制备方法,包括步骤:1)提供一第一衬底、一第二衬底;2)在所述第一衬底生长InGaN基电池膜层,在第二衬底上生长III-V族多结电池膜层;3)从InGaN基电池膜层上剥离第一衬底,剩下InGaN基电池膜层;4)将InGaN基电池膜层的任意裸露表面键合至III-V族多结电池膜层的裸露表面。 |
申请公布号 |
CN102738292B |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201210203859.3 |
申请日期 |
2012.06.20 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人 |
郑新和;张东炎;李雪飞;吴渊渊;陆书龙;杨辉 |
分类号 |
H01L31/078(2012.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/078(2012.01)I |
代理机构 |
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 |
代理人 |
孙佳胤;翟羽 |
主权项 |
一种多结叠层电池,包括一衬底、一InGaN 基电池膜层与一III‑V 族多结电池膜层,所述衬底置于所述III‑V 族多结电池膜层的裸露表面,其特征在于,所述InGaN 基电池膜层与III‑V 族多结电池膜层之间通过键合方式连接,所述InGaN 基电池膜层与III‑V族多结电池膜层均采用双层台面结构,且所述InGaN 基电池膜层与III‑V 族多结电池膜层中每层台面结构裸露表面均设置一电极。 |
地址 |
215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 |