发明名称 |
一种壳聚糖抗感染疝修补补片 |
摘要 |
本实用新型公开了一种壳聚糖抗感染疝修补补片,包括网片基层,所述的网片基层的上层设置有壳聚糖上层,网片基层的下层设置有壳聚糖下层,网片基层的孔隙率为5-15%,厚度为0.2-1.5cm,壳聚糖上层的单位面积质量比为0.5-3.0mg/cm<sup>2</sup>,厚度为0.5-2.0nm;壳聚糖下层的单位面积质量比为0.2-1.0mg/cm<sup>2</sup>,厚度为0.2-1.0nm。本实用新型工艺简单,操作可行。选用的壳聚糖是生物安全性材料,具有良好的生物相容性,具有良好的抗感染功效,可避免手术过程中抗生素的使用。 |
申请公布号 |
CN204618943U |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201520202633.0 |
申请日期 |
2015.04.03 |
申请人 |
武汉蓝普医品有限公司 |
发明人 |
沈传宝;李先华;李辉;沈乔 |
分类号 |
A61L27/54(2006.01)I;A61L27/20(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;A61L27/16(2006.01)N;A61L27/18(2006.01)N |
主分类号 |
A61L27/54(2006.01)I |
代理机构 |
武汉宇晨专利事务所 42001 |
代理人 |
李鹏 |
主权项 |
一种壳聚糖抗感染疝修补补片,包括网片基层(2),其特征在于,所述的网片基层(2)的上层设置有壳聚糖上层(1),网片基层(2)的下层设置有壳聚糖下层(3),网片基层(2)的孔隙率为5‑15%,厚度为0.2‑1.5cm,壳聚糖上层(1)的单位面积质量比为0.5‑3.0mg/cm<sup>2</sup>,厚度为0.5‑2.0nm;壳聚糖下层(3)的单位面积质量比为0.2‑1.0mg/cm<sup>2</sup>,厚度为0.2‑1.0nm。 |
地址 |
430000 湖北省武汉市东西湖区辛安渡工业园 |