发明名称 |
半导体装置及其操作方法与应用电路 |
摘要 |
一种半导体装置及其操作方法与应用电路。藉由调整施加于双重井区上的偏压,来降低控制栅极扩散层、源极扩散层与漏极扩散层之间的漏电流,进而提高应用半导体装置的无电池电子计时器的准确性并降低生产成本。 |
申请公布号 |
CN102856365B |
申请公布日期 |
2015.09.09 |
申请号 |
CN201210215480.4 |
申请日期 |
2012.06.27 |
申请人 |
财团法人交大思源基金会 |
发明人 |
白田理一郎;渡边浩志 |
分类号 |
H01L29/423(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I;G11C16/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/423(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种半导体装置,包括:一第一导电型半导体基底;一栅极介电层,形成于该第一导电型半导体基底上;一浮置门,形成于该栅极介电层上;一第二导电型井区,形成于该第一导电型半导体基底中;一第一导电型井区,形成于该第二导电型井区中;一第二导电型源极扩散层与一第二导电型漏极扩散层,分别形成于该浮置门两侧的该第一导电型半导体基底中,该第二导电型源极扩散层、该第二导电型漏极扩散层与该浮置门形成一第二导电型晶体管,且该第二导电型晶体管位于该第二导电型井区外;一第二导电型控制栅极扩散层,形成于该第一导电型井区中;一源极接触层,配置于该第二导电型源极扩散层上;以及一漏极接触层,配置于该第二导电型漏极扩散层上,其中该浮置门与该第二导电型控制栅极扩散层的重叠区域大于该浮置门与该第二导电型晶体管在该第一导电型半导体基底表面上介于该源极接触层与该漏极接触层之间的通道区域的重叠区域。 |
地址 |
中国台湾新竹市大学路1001号 |