发明名称 光刻系统、传感器、转换元件以及制造方法
摘要 本发明提供了一种用于将图案转印至目标物表面的带电粒子小射束光刻系统,该系统包括用于确定一个或更多带电粒子小射束的一个或更多特征的传感器。传感器包括用于接收带电粒子(22)并且作为响应产生光子的转换元件(1)。转换元件包括用于接收一个或更多带电粒子小射束的表面,该表面设置有用来评估一个或更多单独的小射束的一个或更多单元。各个单元包括具有一个或更多带电粒子阻挡结构的预定阻挡图案(18),该阻挡结构在转换元件表面上沿预定小射束扫描轨迹在阻挡区域与非阻挡区域之间的转变处构成多个刀口。转换元件表面覆盖有带电粒子基本能够穿透而环境光线基本无法穿透的涂层(20)。导电层(21)位于涂层与阻挡结构之间。
申请公布号 CN102906850B 申请公布日期 2015.09.09
申请号 CN201180025381.3 申请日期 2011.03.22
申请人 迈普尔平版印刷IP有限公司 发明人 R.汉福格
分类号 H01J37/244(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I;H01J37/304(2006.01)I 主分类号 H01J37/244(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 刘文洁;沙捷
主权项 一种带电粒子小射束光刻系统,用于将图案转印至目标物表面,该系统包括用于确定一个或更多带电粒子小射束的一个或更多特征的传感器,所述传感器包括用于接收带电粒子并且作为响应产生光子的转换元件,所述转换元件包括用于接收一个或更多带电粒子小射束的表面,所述表面设置有一个或更多单元,用来评估一个或更多单独的带电粒子小射束,各个单元包括一个或更多带电粒子阻挡结构的预定阻挡图案,所述带电粒子阻挡结构在所述转换元件表面上沿预定带电粒子小射束扫描轨迹在带电粒子阻挡区域与带电粒子非阻挡区域之间的转变处构成多个刀口,其中导电层位于所述转换元件表面与所述带电粒子阻挡结构之间,所述导电层在形状和尺寸上基本类似于所述阻挡结构在基本平行于所述转换元件表面的平面内的尺寸规格,并且其中所述转换元件包括闪烁材料。
地址 荷兰代夫特