发明名称 DIFFRACTION BASED OVERLAY METROLOGY TOOL AND METHOD
摘要 <p>기판(100) 상의 제 1 격자(110)와 제 2 격자(120) 간의 오버레이 오차를 결정하는 방법이 제공되며, 상기 제 2 격자(120)는 상기 제 1 격자(110)의 최상부 상에 있고, 상기 제 2 격자(120)는 상기 제 1 격자(110)와 실질적으로 동일한 피치(P1)를 가지고, 상기 제 2 격자 및 상기 제 1 격자는 복합 격자(110, 120)를 형성하며, 상기 방법은, 상기 복합 격자(110, 120)를 상기 기판의 표면을 따르는 제 1 수평 방향(D1)을 따라 소정의 입사 각(β)으로 조명하는 제 1 조명 빔(IB)을 제공하는 단계; 상기 복합 격자(110, 120)로부터 1차 회절 빔(B+)의 제 1 세기(i+)를 측정하는 단계; 상기 복합 격자(110, 120)를 상기 기판의 표면을 따르는 제 2 수평 방향(D2)을 따라 소정의 입사 각(-β)으로 조명하는 제 2 조명 빔을 제공하는 단계 - 제 2 수평 방향(D2)은 제 1 수평 방향(D1)과 대향됨 -; 및 상기 복합 격자(110, 120)로부터 -1차 회절 빔(B-)의 제 2 세기(i-)를 측정하는 단계를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101551340(B1) 申请公布日期 2015.09.08
申请号 KR20147027403 申请日期 2008.12.09
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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