| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체나 디스플레이소자의 제조 공정에 적용되는 진공 증착 장치, 기상 증착 장치 또는 이온 주입 장치와 같은 설비의 진공 챔버에 배치되어 기판이 적재되는 마운터의 수평도의 측정이 가능하도록 하는 공정 챔버 마운터의 수평도 측정 장치 및 이를 가진 진공 챔버 마운터의 수평도 측정 장치 및 이를 가진 공정 챔버에 관한 것이다. 공정 챔버 마운터에 설치되는 수평도 측정 장치(10)는 하우징(11); 하우징(11)의 상부에 상하 이동이 가능하도록 설치되는 이동 모듈(12); 하우징(11)의 내부에 설치되어 이동 모듈(12)의 상하 이동 수준을 측정하기 위한 측정 모듈(14); 및 하우징(11)의 벽면과 이동 모듈(12)의 벽면에 연결되어 유체의 이동이 가능하도록 하는 순환 튜브(13a, 13b)를 포함하고, 상기 이동 모듈(12)의 상하 이동 수준은 전기 신호로 변환되어 전송이 되고 그리고 순환 튜브(13a, 13b)에 공급되는 유체는 외부로 순환이 가능하도록 형성된다.</p> |
