发明名称 - GRATING FOR EUV-RADIATION METHOD FOR MANUFACTURING THE GRATING AND WAVEFRONT MEASUREMENT SYSTEM
摘要 <p>EUV-방사선에 대한 격자는 복수의 반사 라인들을 포함한다. 각각의 반사 라인은 서로 교번하여 배치된 복수의 제 1 반사 도트들 및 복수의 제 2 반사 도트들을 포함한다. 제 1 반사 도트들 및 제 2 반사 도트들은 180±10 도 mod 360 도의 상호 위상 차로 EUV-방사선을 반사시키도록 구성된다.</p>
申请公布号 KR101551342(B1) 申请公布日期 2015.09.08
申请号 KR20107016421 申请日期 2008.12.19
申请人 发明人
分类号 G02B5/18;G03F7/20 主分类号 G02B5/18
代理机构 代理人
主权项
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