| 摘要 |
<p>본 발명은 물리적 손상 없이 안정적으로 하드렌즈의 표면을 친수성이 높고 표면 조도가 낮도록 개질시키는 동시에 세척시킬 수 있는 저진공 플라즈마를 이용한 하드렌즈 세척장치에 관한 것이다. 본 발명은 소정의 공간이 내부에 구비된 본체; 상기 본체에 개폐 가능하게 설치되고, 상기 본체와 사이에 밀폐된 공간을 제공하는 커버; 상기 본체 내부에 구비되고, 하드렌즈가 안착될 수 있는 렌즈 수납부; 상기 렌즈 수납부를 사이에 두고 설치되고, 전류가 공급됨에 따라 플라즈마를 생성시키는 한 쌍의 방전 전극; 상기 본체와 커버 사이의 밀폐된 공간과 연통되고, 가스의 유/출입을 조절하는 저진공 조절수단; 및 상기 방전 전극들과 저진공 조절수단의 작동을 제어하고, 하드렌즈 세척 시에 저진공 상태에서 플라즈마를 생성시키는 제어부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 저진공 플라즈마를 이용한 하드렌즈 세척장치를 제공한다.</p> |
