| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체층의 도핑방법과 이러한 과정을 포함하는 후면전극형 태양전지의 제조방법 및 이로 인해 제조되는 후면전극형 태양전지에 관한 것으로서, 구체적으로 반도체층을 도핑하는 공정은 반도체 기판의 표면에 식각저항막을 패터닝하여 형성하는 단계와, 상기 식각저항막이 형성되지 않은 반도체 기판의 표면을 식각하여 불순물 도핑 채널을 형성하는 단계와, 상기 식각저항막을 제거하고, 상기 불순물 도핑 채널 위에 상기 채널 상면부와 외부를 차단시키고 탈부착이 가능한 채널 차폐막 을 부착하는 단계와, 외부와 차단된 상기 불순물 도핑 채널에 반도체 불순물을 주입하는 단계와, 및 상기 채널 차폐막 을 탈착하고 열처리하여 상기 불순물을 반도체 기판 내로 도입하는 단계를 포함한다.</p> |
