发明名称 HOHLRAUMSTRUKTUREN FüR MEMS-BAUELEMENTE
摘要 <p>Ausführungsbeispiele beziehen sich auf MEMS-Bauelemente, insbesondere MEMS-Bauelemente, die mit verwandten elektrischen Bauelementen auf einem einzigen Wafer integriert sind. Ausführungsbeispiele verwenden ein Konzept eines modularen Prozessablaufs als Bestandteil eines MEMS-Zuerst-Lösungsansatzes, der die Verwendung eines neuartigen Hohlraumabdichtungsprozesses ermöglicht. Die Auswirkung und mögliche nachteilige Effekte der MEMS-Verarbeitung auf die elektrischen Bauelemente werden dadurch verringert oder eliminiert. Gleichzeitig wird eine äußerst flexible Lösung geschaffen, die eine Implementierung einer Vielzahl von Messprinzipien, einschließlich kapazitiver und piezoresistiver, ermöglicht. Deshalb können eine Vielzahl von Sensoranwendungen mit verbesserter Leistungsfähigkeit und erhöhter Qualität anvisiert werden, die gleichzeitig kostenwirksam bleiben.</p>
申请公布号 DE102012025750(A1) 申请公布日期 2015.09.03
申请号 DE20121025750 申请日期 2012.02.21
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 WINKLER, BERNHARD;ZANKL, ANDREAS;PRUEGL, KLEMENS;KOLB, STEFAN
分类号 B81C1/00;B81B3/00;B81B7/02;H01L21/336;H01L27/06 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人
主权项
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