| 摘要 |
<p>Eine Abgasbehandlungsvorrichtung hat ein erstes von Abgas durchströmtes Substrat (14) mit einer einströmseitigen und einer ausströmseitigen Stirnfläche (26) sowie einer Mantelfläche (22) und ein zweites von Abgas durchströmtes Substrat (16), das stromabwärts des ersten Substrats (14) angeordnet ist und mit seiner einströmseitigen Stirnfläche (28) der Mantelfläche (22) des ersten Substrats (14) zugewandt ist, sodass die Substrate (14, 16) gewinkelt zueinander liegen. Das zweite Substrat (16) schließt mit geringem Abstand seitlich des ersten Substrats (14) an. Aus dem ersten Substrat (14) austretendes Abgas wird außenseitig benachbart seiner Mantelfläche (22) zurückgelenkt und weiter in Richtung der einströmseitigen Stirnfläche (28) des zweiten Substrats (16) umgelenkt. Zwischen den beiden Substraten (14, 16) sind eine Einspritzvorrichtung (32) für eine Harnstofflösung sowie eine statische Mischvorrichtung (38) vorgesehen. Die Mischvorrichtung (38) weist einen ersten Deflektor (40) und einen in Strömungsrichtung folgenden zweiten Deflektor (42) auf, die jeweils wenigstens eine im Abgasstrom angeordnete Umlenkfläche (47, 64) haben. Die Umlenkflächen (47, 64) weisen jeweils zumindest abschnittsweise einen Abstand von etwa 10 bis 30 mm, insbesondere von etwa 18 bis 25 mm von der einströmseitigen Stirnfläche (28) des zweiten Substrats (16) auf.</p> |
