| 摘要 |
<p>Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Sensors zur Erfassung einer einen Druck repräsentierenden Größe, wobei die Herstellung wenigstens die Schritte–Erzeugen einer Kaverne (10, 11) in einem Siliziumchip (1) mittels eines ersten Trenchätzschritts, und–Erzeugen einer Öffnung (23) in einem Glassockel (2) mittels einer Bohrung, wobei die Kaverne (10, 11) im Vergleich zur Öffnung (23) einen kleineren Durchmesser aufweist, und–Ausrichten der Öffnung (23) auf die Kaverne (9, 10, 11), und–Verbinden des Siliziumchips (1) mit dem Glassockel (2), und–Erzeugung eines stufenlosen Übergangs der Öffnung zwischen Siliziumchip (1) und Glassockel (2) nach der Verbindung des Siliziumchips (1) mit dem Glassockel durch einen zweiten Trenchätzschritt, wobei die Bohrung im Glassockel (2) als Maske für den zweiten Trenchätzschritt dient, umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass in einem weiteren Herstellungsschritt auf die Oberfläche der Öffnung (23) eine Materialschicht (30) aufgebracht wird, wobei vorgesehen ist, dass die Materialschicht (30) derart aufgebracht wird, dass sie sowohl die Oberfläche der Öffnung im Glassockel (2) als auch wenigstens ein Teil der Kavernenwände bedeckt, so dass die Grenze zwischen Glassockel (2) und Siliziumchip (1) abgedeckt wird.</p> |
