| 摘要 |
<p>原子層蒸着装置は、基板移送装置、少なくとも１つの噴射ユニットを具備するシャワーヘッド及びシャワーヘッド往復移動装置を具備し、基板が移送される間、シャワーヘッドは、往復移動しながら、原料前駆体及び反応前駆体を基板上に噴射し、基板の移送速度及びシャワーヘッドの往復移動速度を調節することによって、基板上に蒸着される原子層の数を調節することができる。これにより、原子層蒸着装備サイズが小さくとも、スループットが高い原子層蒸着装置及びその方法を提供し、また、気体を透過させる材質から構成された基板に原子層を蒸着することができる原子層蒸着装置及びその方法を提供する。</p> |
