发明名称 | 一种AlGaN/GaN HEMT压力传感器 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种AlGaN/GaN HEMT压力传感器;包括衬底、h-BN移除层、AlN缓冲层、GaN沟道层、隔离层AlN、非掺杂Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>N势垒层和帽层GaN;所述的h-BN移除层下方粘贴有开有孔洞的金属铜衬底,h-BN移除层上生长AlN缓冲层;接着在AlN缓冲层上面外延生长GaN沟道层;之后在沟道层GaN上外延生长隔离层AlN,接着在隔离层AlN上外延生长非掺杂Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>N势垒层和帽层GaN;帽层上设有AlGaN/GaN HEMT的栅极、源极和漏极;本实用新型通过h-BN移除层可以转移器件的衬底,避免腐蚀工艺,使得器件可以生长在除外延材料质量硬度高的蓝宝石衬底上。 | ||
申请公布号 | CN204607576U | 申请公布日期 | 2015.09.02 |
申请号 | CN201520205686.8 | 申请日期 | 2015.04.07 |
申请人 | 杭州电子科技大学 | 发明人 | 王凯;程知群;董志华;刘国华;周涛;柯华杰 |
分类号 | B81B7/02(2006.01)I | 主分类号 | B81B7/02(2006.01)I |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人 | 杜军 |
主权项 | 一种AlGaN/GaN HEMT压力传感器;包括衬底、h‑BN移除层、AlN缓冲层、 GaN沟道层、隔离层AlN、非掺杂Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>N势垒层和帽层GaN;其特征在于:所述的h‑BN移除层下方粘贴有开有孔洞的金属铜衬底,h‑BN移除层上生长AlN缓冲层;接着在AlN缓冲层上面外延生长GaN沟道层;之后在沟道层GaN上外延生长隔离层AlN,接着在隔离层AlN上外延生长非掺杂Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>N势垒层和帽层GaN;帽层上设有AlGaN/GaN HEMT的栅极、源极和漏极;所述的h‑BN移除层厚度为3nm;所述的AlN缓冲层厚度为100nm;所述的GaN沟道层厚度为1.9μm;所述的AlN隔离层厚度为1nm;所述的Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>N势垒层厚度为20nm;所述的GaN帽层厚度为2nm。 | ||
地址 | 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 |