工艺腔室及应用该工艺腔室的等离子体处理设备

摘要

本发明提供一种工艺腔室，包括腔室侧壁及附着于侧壁上的内衬，所述侧壁上具有抽气窗，所述内衬上对应该抽气窗的区域内具有第一通孔，并且在所述侧壁和内衬之间还具有与抽气窗相连通的间隙，在所述内衬上与所述间隙相对应的区域内具有用于配合所述间隙而对工艺腔室进行抽真空的第二通孔。在工艺过程中，本发明工艺腔室通过上述第一通孔和第二通孔而同时对工艺腔室进行抽真空，因而在不增大抽气腔室体积和真空泵功率的情况下能够有效提高腔室的抽真空能力。此外，本发明同时还提供了一种应用上述工艺腔室的等离子体处理设备。

主权项

一种工艺腔室，用于等离子体处理设备，包括腔室侧壁和附着在所述侧壁上的内衬，所述侧壁上具有抽气窗，在所述内衬上对应于所述抽气窗的区域内具有第一通孔，其特征在于，在所述侧壁和内衬之间具有与所述抽气窗相连通的间隙，在所述内衬上与所述间隙相对应的区域内具有用于配合所述间隙而对工艺腔室进行抽真空的第二通孔，气体通过所述第一通孔和第二通孔同时向外排出，所述间隙与所述抽气窗两侧的边缘相连通；相应地，所述第二通孔分布于所述第一通孔的两侧。