发明名称 |
光学防伪元件和产品及制备光学防伪元件的方法和设备 |
摘要 |
本发明提供一种光学防伪元件和产品及制备光学防伪元件的方法和设备。该方法包括:在第一版辊的凹槽中填充第一辐射固化材料;除去第一版辊的凹槽以外部分上的第一辐射固化材料;使第一版辊的凹槽中的第一辐射固化材料与基材的上表面相接触;用第一辐射固化源对第一辐射固化材料进行辐射固化,辐射固化后第一辐射固化材料与基材的结合强度大于第一辐射固化材料与第一版辊的结合强度;和使基材与第一版辊分离,以便第一辐射固化材料从第一版辊的凹槽中剥离并依附于基材的上表面上,并由剥离的第一辐射固化材料形成微图文图案。该方法和设备能够实现高效、批量和稳定的生产,该光学防伪元件和产品能够提高公众吸引力和抗伪造能力。 |
申请公布号 |
CN104875523A |
申请公布日期 |
2015.09.02 |
申请号 |
CN201510266392.0 |
申请日期 |
2015.05.22 |
申请人 |
中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
发明人 |
朱军;张宝利;周树荣;蹇钰;崔海波;李欣毅 |
分类号 |
B42D25/30(2014.01)I;B42D25/36(2014.01)I;B42D25/40(2014.01)I |
主分类号 |
B42D25/30(2014.01)I |
代理机构 |
北京润平知识产权代理有限公司 11283 |
代理人 |
曹寒梅;肖冰滨 |
主权项 |
一种制备光学防伪元件的方法,该光学防伪元件包括基材和位于所述基材上表面上的微图文图案,该方法包括:在第一版辊的凹槽中填充第一辐射固化材料,所述第一版辊的凹槽宽度为微米甚至亚微米量级以使得与所述第一版辊的凹槽分布相同的微图文图案的精细度达到微米甚至亚微米量级;除去位于所述第一版辊的凹槽以外部分上的所述第一辐射固化材料;使所述第一版辊的凹槽中的第一辐射固化材料与所述基材的上表面相接触;利用第一辐射固化源对所述第一辐射固化材料进行辐射固化,并且辐射固化后所述第一辐射固化材料与所述基材的结合强度大于所述第一辐射固化材料与所述第一版辊的结合强度;以及使所述基材与所述第一版辊分离,以使得所述第一辐射固化材料从所述第一版辊的凹槽中剥离并依附于所述基材的上表面上,从而由剥离的所述第一辐射固化材料形成所述微图文图案。 |
地址 |
100070 北京市丰台区科学城星火路6号 |