发明名称 结晶状硅晶圆的纹理蚀刻液组成物及纹理蚀刻方法(2)
摘要 本发明揭示一种用于将结晶状硅晶圆纹理化的蚀刻组成物,及一种使用该蚀刻组成物将结晶状硅晶圆蚀刻的方法,所述蚀刻组成物可将结晶状硅晶圆表面的光吸收度最大化,该蚀刻组成物包括按组成物总量计为:(A)碱性化合物;(B)沸点为100℃以上的环状化合物;(C)氟系界面活性剂;以及(D)水。
申请公布号 CN103108992B 申请公布日期 2015.09.02
申请号 CN201180039234.1 申请日期 2011.08.12
申请人 东友精细化工有限公司 发明人 洪亨杓;李在连;林大成
分类号 C23F1/32(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;C09K13/00(2006.01)I;C09K13/08(2006.01)I 主分类号 C23F1/32(2006.01)I
代理机构 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人 徐川;张颖玲
主权项 一种用于将结晶状硅晶圆纹理化的蚀刻组成物,包括按组成物总量计为:0.1至20重量%的碱性化合物;2至10重量%的沸点为100℃以上的环状化合物;0.000001至10重量%的氟系界面活性剂;以及剩余为水,其中该沸点为100℃以上的环状化合物选自由哌嗪、N‑甲基哌嗪、N‑乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、N‑(2‑氨基乙基)哌嗪、N,N’‑二甲基哌嗪、吗啉、N‑甲基吗啉、N‑乙基吗啉、N‑苯基吗啉、N‑可可基吗啉、N‑(2‑氨基乙基)吗啉、N‑(2‑氰基乙基)吗啉、N‑(2‑羟基乙基)吗啉、N‑(2‑羟基丙基)吗啉、N‑乙酰基吗啉、N‑甲酰基吗啉、N‑甲基吗啉‑N‑氧化物、甲吡啶、N‑甲基哌啶、3,5‑二甲基哌啶、N‑乙基哌啶、N‑(2‑羟基乙基)哌啶、N‑甲基‑4‑哌啶酮、N‑乙烯基‑2‑哌啶酮、N‑甲基吡咯烷、N‑甲基吡咯烷酮、N‑乙基‑2‑吡咯烷酮、N‑异丙基‑2‑吡咯烷酮、N‑丁基‑2‑吡咯烷酮、N‑叔丁基‑2‑吡咯烷酮、N‑己基‑2‑吡咯烷酮、N‑辛基‑2‑吡咯烷酮、N‑苄基‑2‑吡咯烷酮、N‑环己基‑2‑吡咯烷酮、N‑乙烯基‑2‑吡咯烷酮、N‑(2‑羟基乙基)‑2‑吡咯烷酮、N‑(2‑甲氧基乙基)‑2‑吡咯烷酮、N‑(2‑甲氧基丙基)‑2‑吡咯烷酮、N‑(2‑乙氧基乙基)‑2‑吡咯烷酮、N‑甲基四氢咪唑酮、二甲基四氢咪唑酮、N‑(2‑羟基乙基)‑伸乙脲、四氢呋喃、四氢糠醇、N‑甲基苯胺、N‑乙基苯胺、N,N‑二甲基苯胺、N‑(2‑羟基乙基)苯胺、N,N‑双‑(2‑羟基乙基)苯胺、N‑乙基‑N‑(2‑羟基乙基)苯胺、N,N‑二乙基‑邻甲苯胺、N‑乙基‑N‑(2‑羟基乙基)‑间甲苯胺、二甲基苄胺、γ‑丁内酯、甲苯三唑、1,2,3‑苯并三唑、1,2,3‑三唑、1,2,4‑三唑、3‑氨基‑1,2,4‑三唑、4‑氨基‑4H‑1,2,4‑三唑、1‑羟基苯并三唑、1‑甲基苯并三唑、2‑甲基苯并三唑、5‑甲基苯并三唑、苯并三唑‑5‑碳酸酯、硝基苯并三唑、与2‑(2H‑苯并三唑‑2‑基)‑4,6‑二‑叔丁基酚所组成的群组中的一种或多种,其中,所述蚀刻组成物为适用于浸渍型、喷雾型及单片型蚀刻程序的液体。
地址 韩国全罗北道