发明名称 一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板
摘要 本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板,该制作方法包括在基板上依次形成第一金属层、绝缘层、第一薄膜层、第二金属层及无机层;在有无机层上形成光阻层;在无机层及光阻层上形成有机层;在有机层及无机层上挖孔以形成第一通孔,使第二金属层部分裸露出来;在有机层以及裸露的第二金属层上形成第二薄膜层。通过上述方式,本发明能够减小金属层的损坏以及减少制程中的光罩,提高生产良率。
申请公布号 CN104882449A 申请公布日期 2015.09.02
申请号 CN201510152388.1 申请日期 2015.04.01
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 吕晓文;曾志远
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人 何青瓦
主权项 一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:在基板上依次形成第一金属层、绝缘层、第一薄膜层、蚀刻阻止层、第二金属层及无机层;在所述有无机层上形成光阻层;在所述无机层及所述光阻层上形成有机层;在所述有机层及所述无机层上挖孔以形成第一通孔,使所述第二金属层部分裸露出来;在所述有机层以及裸露的第二金属层上形成第二薄膜层。
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