发明名称 |
一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板,该制作方法包括在基板上依次形成第一金属层、绝缘层、第一薄膜层、第二金属层及无机层;在有无机层上形成光阻层;在无机层及光阻层上形成有机层;在有机层及无机层上挖孔以形成第一通孔,使第二金属层部分裸露出来;在有机层以及裸露的第二金属层上形成第二薄膜层。通过上述方式,本发明能够减小金属层的损坏以及减少制程中的光罩,提高生产良率。 |
申请公布号 |
CN104882449A |
申请公布日期 |
2015.09.02 |
申请号 |
CN201510152388.1 |
申请日期 |
2015.04.01 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
吕晓文;曾志远 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
何青瓦 |
主权项 |
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:在基板上依次形成第一金属层、绝缘层、第一薄膜层、蚀刻阻止层、第二金属层及无机层;在所述有无机层上形成光阻层;在所述无机层及所述光阻层上形成有机层;在所述有机层及所述无机层上挖孔以形成第一通孔,使所述第二金属层部分裸露出来;在所述有机层以及裸露的第二金属层上形成第二薄膜层。 |
地址 |
518000 广东省深圳市光明新区公明办事处塘家社区观光路汇业科技园综合楼1第一层B区 |