发明名称 |
用于改进晶片均匀性的装置和方法 |
摘要 |
本发明涉及用于改进晶片均匀性的装置和方法,具体而言,提供了一种半导体处理气流歧管,其使得歧管气流路径的气体流动特性能在半导体处理室的外部单独进行调节。气流歧管可连接到所述半导体处理室内部的处理气体分配装置。处理气体分配装置可具有多个气流通道,每个通道单独地连接到歧管气流路径,并瞄准半导体晶片上的区域。单个歧管气流路径的调节可改变通过每个处理气体分配气流通道分配到半导体晶片的相应区域的处理气体的量。 |
申请公布号 |
CN104882399A |
申请公布日期 |
2015.09.02 |
申请号 |
CN201510080217.2 |
申请日期 |
2015.02.13 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
凯文·马丁戈尔;弗朗斯·凯瑟琳·瑟拉亚;李湘云;凯寒·阿比迪·阿施蒂尼 |
分类号 |
H01L21/677(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
代理机构 |
上海胜康律师事务所 31263 |
代理人 |
樊英如;李献忠 |
主权项 |
一种半导体处理工具的气流歧管,该气流歧管包括:半导体处理气流歧管主体;和多个歧管气流路径,其从所述歧管主体的第一侧延伸到所述歧管主体的第二侧,其中,所述歧管气流路径能从所述歧管主体的所述第一侧单独调节以改变通过所述歧管的气流特性。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |