发明名称 表面等离子体调制的倒装VCSEL激光器及其制造方法
摘要 本发明公开了一种表面等离子体调制倒装VCSEL激光器的制造方法,包括:(1)外延片准备;(2)台面制备;(3)湿法氧化;(4)P面生长SiO<sub>2</sub>;(5)制作隔离窗口;(6)P面制作电极;(7)N面减薄;(8)N面生长SiO<sub>2</sub>;(9)N面SiO<sub>2</sub>腐蚀;(10)N面套刻及溅射金属;(11)管芯制作;(12)纳米结构制备;(13)测试。本发明的表面等离子体调制的倒装VCSEL激光器的制造方法能够实现在某些波长的底发射垂直腔面发射激光器上实现表面等离子体调制,补充了表面等离子体调制垂直腔面激光器在倒装方面的空白,使全波长段都能实现微纳结构的表面等离子体调制。
申请公布号 CN104882787A 申请公布日期 2015.09.02
申请号 CN201510300471.9 申请日期 2015.06.03
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 宋国峰;祝希;李康文;付东
分类号 H01S5/183(2006.01)I;H01S5/323(2006.01)I 主分类号 H01S5/183(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 宋焰琴
主权项 一种表面等离子体调制的倒装VCSEL激光器的制造方法,包括以下步骤:根据表面等离子体调制的需要确定所述倒装VCSEL激光器台面的大小;对所述激光器台面进行湿法氧化;在所述激光器台面的P面生长SiO<sub>2</sub>;在所述激光器台面的P面上形成电极注入窗口并制作电极:将所述激光器台面的N面减薄,并生长SiO<sub>2</sub>;对所述激光器台面的N面上的SiO<sub>2</sub>进行腐蚀,腐蚀出直径40μm的圆形SiO<sub>2</sub>;在所述激光器台面的N面采用双面套刻工艺,剥离圆形SiO<sub>2</sub>周围金属,使表面等离子体调制结构与电极分离,防止电流注入;片上检测所述制得的激光器单管的电流电压特性,挑选出电流电压特性正常的管芯,进行解理、烧结、压焊和封装管芯;对烧结完成的所述管芯,采用聚焦离子束刻蚀方法制备纳米结构,由此得到所述的表面等离子体调制的倒装VCSEL激光器。
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