发明名称 |
基板处理装置 |
摘要 |
提供一种由于能够直接检测处理液的浓度,因而能够几乎不受处理液温度影响地进行独立的浓度控制,从而能够精度良好地对基板进行药液处理的基板处理装置。在将基板浸渍在将药液和稀释液混合而成的处理液中进行处理的基板处理装置中,包括:处理槽(1),贮留处理液;加热单元(2、3),加热处理液;温度检测单元(4),检测处理液的温度;温度控制单元(5),操作所述加热单元(2、3)以使检测温度接近设定温度;补充单元(6),将稀释液补充到处理液中;浓度检测单元(7),通过测量处理液的吸光特性来检测处理液的浓度;以及浓度控制单元(8),操作所述补充单元(6)以使检测浓度接近设定浓度。 |
申请公布号 |
CN103155113B |
申请公布日期 |
2015.09.02 |
申请号 |
CN201180036016.2 |
申请日期 |
2011.07.21 |
申请人 |
仓敷纺织株式会社;株式会社化学工艺技术 |
发明人 |
清濑浩巳;平木哲;渡部博 |
分类号 |
H01L21/306(2006.01)I;H01L21/308(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
杨晶;王琦 |
主权项 |
一种基板处理装置,对含有作为药液的磷酸与作为稀释液的水的处理液进行加热,将基板浸渍在该处理液中进行处理,其特征在于,在该基板处理装置中包括:处理槽,贮留处理液;加热单元,加热处理液;温度检测单元,检测处理液的温度;温度控制单元,操作所述加热单元以使该温度检测单元检测出的温度接近设定温度;补充单元,将稀释液补充到处理液中;浓度检测单元,通过测量980nm附近以及1100nm附近的波长下的处理液的吸光特性,来检测去除了由处理液的温度引起的误差变动后的处理液的浓度;以及浓度控制单元,操作所述补充单元以使该浓度检测单元检测出的浓度接近设定浓度。 |
地址 |
日本冈山县 |