发明名称 |
一种沉积黑色导电膜层的设备及其使用方法 |
摘要 |
本发明涉及一种沉积黑色导电膜层的设备,包括一个真空腔体,在真空腔体内设置有一个圆环形的工件转架,在真空腔体的左右两侧设置有对称的两个与真空腔体一体化相连的凸腔,在凸腔内设置有用于放置钨靶及钛靶的料口和位于上下两个料口的气管,在右侧的凸腔上端设有一个与真空腔体一体化相连用于放置离子源的小凸腔。薄膜方块电阻100-2000(Ω/□),膜厚1-5um,颜色L=28-40,a=-0.3-0.3,b=-1-1,硬度:600-1500HV,耐腐蚀、耐候性,耐磨擦性能优异,完全能满足客户的要求。 |
申请公布号 |
CN104878347A |
申请公布日期 |
2015.09.02 |
申请号 |
CN201510302149.X |
申请日期 |
2015.06.05 |
申请人 |
深圳市正和忠信股份有限公司 |
发明人 |
杜旭颖;阮志明;王大洪;曾德强;庞文峰 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
韶关市雷门专利事务所 44226 |
代理人 |
周胜明 |
主权项 |
一种沉积黑色导电膜层的设备,其特征是:包括一个真空腔体,在真空腔体内设置有一个圆环形的工件转架,在真空腔体的左右两侧设置有对称的两个与真空腔体一体化相连的凸腔,在凸腔内设置有用于放置钨靶及钛靶的料口和位于上下两个料口的气管,在右侧的凸腔上端设有一个与真空腔体一体化相连用于放置离子源的小凸腔。 |
地址 |
518000 广东省深圳市龙岗区坪地街道教育北路90号高桥产业园欧明达工业区 |