发明名称 阵列基板及其制作方法、液晶面板
摘要 本发明公开一种阵列基板,其包括:第一基板(11);设置在第一基板(11)上的金属层(13);覆盖金属层(13)的第二绝缘层(14),其中,第二绝缘层(14)中具有露出金属层(13)的过孔(141);设置在第二绝缘层(14)上的且通过过孔(141)与金属层(13)接触的导电层(15);设置在导电层(15)上且分别位于第二绝缘层(14)的非过孔区域上和过孔(141)中的间隔体(16)。本发明还公开一种该阵列基板的制作方法及具有该阵列基板的液晶面板。在本发明中,分别位于非过孔区域上和过孔中的间隔体利用一道光罩同时形成,只需一次制程来完成,相比现有技术,能够节省了一道光罩及一次制程,减少制作时间提高效率的同时,降低了制作成本。
申请公布号 CN104880865A 申请公布日期 2015.09.02
申请号 CN201510344529.X 申请日期 2015.06.19
申请人 武汉华星光电技术有限公司 发明人 李亚锋;陈彩琴
分类号 G02F1/1339(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 G02F1/1339(2006.01)I
代理机构 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人 孙伟峰;武岑飞
主权项 一种阵列基板,其特征在于,包括:第一基板(11);设置在所述第一基板(11)上的金属层(13);覆盖所述金属层(13)的第二绝缘层(14),其中,所述第二绝缘层(14)中具有过孔(141),所述过孔(141)露出所述金属层(13);设置在所述第二绝缘层(14)上的导电层(15),其中,所述导电层(15)通过所述过孔(141)与所述金属层(13)接触;设置在所述导电层(15)上且分别位于所述第二绝缘层(14)的非过孔区域上和所述过孔(141)中的间隔体(16)。
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
您可能感兴趣的专利