发明名称 | 矽晶太阳电池之背面电极制造方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI499073 | 申请公布日期 | 2015.09.01 |
申请号 | TW102145456 | 申请日期 | 2008.10.22 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 杜政勋;许世朋 |
分类号 | H01L31/18;H01L31/04 | 主分类号 | H01L31/18 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 | |
主权项 | 一种矽晶太阳电池之背面电极制造方法,包括:在一矽基板的背面上沉积一钝化层;在该钝化层上涂布一第一金属胶料;在该矽基板的背面上涂布一第二金属胶料,该第二金属胶料覆盖该第一金属胶料;以及进行一烧结步骤,其中该烧结步骤的温度为600℃~1000℃,使该第一金属胶料能穿过该钝化层与该矽基板接合,并扩散入该矽基板的背面内,并使该第二金属胶料固化,且该第二金属胶料不致于穿过该钝化层,以完成背面电极结构。 | ||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |