多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法

摘要

在藉由1液而蚀刻铜层和钼层之多层膜之蚀刻液，在蚀刻后之边缘之剖面形状来要求成为所谓无下切之顺锥形之形状同时在蚀刻液中无产生析出物系重要于使用在量产时之际。;包含过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂且包含铜层及钼层之多层膜用蚀刻液系无包含唑化合物，因此，在和过氧化氢之间，无生成反应物，在蚀刻液中，无产生析出物。并且，在蚀刻后之边缘之剖面形状系可以成为理想之顺锥形之形状。此外，也无包含磷化合物、氟化合物，因此，在废弃之际，环境负荷也变轻。