| 发明名称 |
具有酸不稳定基之共聚物、光阻组成物、经涂覆基板及形成电子装置之方法;COPOLYMER WITH ACID-LABILE GROUP, PHOTORESIST COMPOSITION, COATED SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE |
| 摘要 |
一种共聚物，其包括衍生自下列者之重复单元：经内酯取代之单体；具有低于或等于12的pKa之硷溶性单体；光酸产生单体；以及具有下式之酸不稳定单体：其中，R 1 、R 2 、R 3 、及Ar系于本文中定义。该共聚物可用作光阻组成物之成分，且该光阻组成物可涂覆于具有欲图案化之一或多层的基板，或使用于形成电子装置之方法中。 |
| 申请公布号 |
TW201533071 |
申请公布日期 |
2015.09.01 |
| 申请号 |
TW103144461 |
申请日期 |
2014.12.19 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC |
发明人 |
安格宜 欧文帝 ONGAYI, OWENDI;强尼 凡保 JAIN, VIPUL;卡麦隆 詹姆士Ｆ CAMERON, JAMES F.;赛可瑞 詹姆士Ｗ THACKERAY, JAMES W.;克雷 苏珍 COLEY, SUZANNE M. |
| 分类号 |
C08F220/12(2006.01);C08F220/32(2006.01);C08F220/40(2006.01);C08F220/38(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/027(2006.01);H01L21/312(2006.01);G03F1/22(2012.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
C08F220/12(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄陈昭诚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 US |
