空气间隙形成用二氧化矽系膜形成材料及空气间隙之形成方法

主权项

一种二氧化矽系膜之形成材料，其系含有(a)以下述通式(a-1)所示之矽烷化合物水解缩合而成之矽氧烷聚合物，且前述矽氧烷聚合物之质量平均分子量为6,000以上1,000,000以下、(b)0.1质量%以上3质量%以下之烷醇胺、及(c)有机溶剂；【化1】R1nSi(OR2)4-n(a-1)[通式(a-1)中，R1为氢原子或碳数1以上20以下之烷基或芳基，R2为一价之有机基，n表示0以上2以下之整数]。