发明名称 SLURRY COMPOSITION FOR POLISHING COPPER BARRIER LAYER
摘要 <p>본 발명의 구리 배리어층 연마용 슬러리 조성물은, 연마입자의 분산성과 안정성을 향상시키고, 양의 제타 전위를 가지는 슬러리 조성물을 제조하여 스크래치와 결함을 개선하여 구리막 표면상태를 우수하게 유지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 구리 배리어층 연마용 슬러리 조성물을 통해, 신뢰성 및 특성이 우수한 반도체 디바이스의 구리 배선층 등을 보다 효율적으로 형성할 수 있으므로, 고성능의 반도체 디바이스를 얻는데 크게 기여할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101548715(B1) 申请公布日期 2015.09.01
申请号 KR20130166842 申请日期 2013.12.30
申请人 发明人
分类号 C09K3/14;H01L21/304 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
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