气体分布板

摘要

本发明提供的气体分布板，包括基底以及包覆基底表面的耐等离子体刻蚀涂层，其中，组成耐等离子体刻蚀涂层的材料的稳定性较高，不与等离子体工艺过程中的等离子体发生反应，所以，在等离子体加工工艺或等离子体刻蚀过程中，本发明提供的气体分布板表面稳定性好，其不会被等离子体所腐蚀，因而也就不会在气体分布板的表面形成新的物质，因而保证了气体分布板表面的稳定性，提高了气体分布板的使用寿命，进一步地，表面稳定的气体分布板保证了等离子体工艺的稳定性，进一步提高了晶片的生产良率。