半色调相位移型光罩毛胚、半色调相位移型光罩及图型曝光方法

摘要

本发明提供一种半色调相位移型光罩毛胚，其系于透明基板上具有半色调相位移膜，该半色调相位移膜包含对于波长200nm以下之光，透过率为10%以上，相位差为150~200°，且膜厚为70nm以下，同时由矽及氮、或由矽、氮及氧所成之氧含量为氮含量之1/3(原子比)以下，折射率为2.4以上，吸收系数为0.22以上且0.54以下之层。;本发明可提供具备半色调相位移膜之半色调相位移型光罩毛胚及半色调相位移型光罩，该半色调相位移膜系除了确保特定之相位差以外，为高透过率且光罩图型之加工有利之较薄的膜，对于化学洗净之耐药品性亦优异，而可进行微影蚀刻中适于更要求图型之微细化与高精度化之图型曝光。