| 发明名称 |
光酸产生剂、光阻、经涂覆基板及形成电子装置之方法;PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST, COATED SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE |
| 摘要 |
一种光酸产生剂化合物，其系具有式(1)：其中，a、b、c、d、e、x、L 1 、L 2 、L 3 、L 4 、R 1 、R 2 、X、及Z - 系如本文中定义。该光酸产生剂化合物系显现于典型用以配制光阻组成物及负调显影剂之溶剂中的良好溶解度。本文所揭示者系包括该光酸产生剂化合物之光阻组成物、包括该光阻组成物之经涂覆基板、及使用该光阻组成物形成装置之方法。 |
| 申请公布号 |
TW201533537 |
申请公布日期 |
2015.09.01 |
| 申请号 |
TW103135939 |
申请日期 |
2014.10.17 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC |
发明人 |
阿葵德 恩媚德 AQAD, EMAD;库尔 尔凡德 KAUR, IRVINDER;刘琮 LIU, CONG;李铭启 LI, MINGQI;徐 承柏 XU, CHENG-BAI |
| 分类号 |
G03F7/029(2006.01);G03F7/027(2006.01);G03F7/004(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/312(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/029(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄陈昭诚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 US |
