发明名称 功率元件的制造方法;METHOD FOR PRODUCING POWER DEVICE
摘要 本发明之目的在于提供功率元件的制造方法,该制造方法系可对应于晶圆薄化的严格要求,生产率优良的功率元件制造方法,更进一步,系能量损失少,散热性优良之功率元件的制造方法。;本发明之功率元件的制造方法,系依序具有下列(1)至(7)的步骤:;(1)至少于晶圆表面形成电极之步骤;(2)背面研磨(BG)晶圆之步骤;(3)于晶圆背面形成电极(背垫金属(BM))之步骤;(4)于晶圆背面贴附玻璃基板之步骤;(5)于前述晶圆表面的电极上藉由无电解镀覆形成UBM之步骤;(6)剥离前述晶圆背面的玻璃基板之步骤;(7)于晶圆背面贴上切割胶带,进行切割,并自切割胶带进行拾取,藉此进行晶片化之步骤;The method for producing a power device comprises the following steps (1) to (7) in this order: ;(1) a step of at least forming an electrode on a wafer surface ;(2) a step of back-grinding (BG) the wafer ;(3) a step of forming an electrode (back metal, BM) on the back side of the wafer ;(4) a step of laminating a glass substrate on the back side of the wafer ;(5) a step of forming a UBM on the electrode on the wafer surface by electroless lating ;(6) a step of striping the glass substrate on the back side of the wafer ;(7) a step of dicing by pasting dicing tape to the back side of the wafer, performnig dicing, and picking up from the dicing tape.
申请公布号 TW201533783 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW103139001 申请日期 2014.11.11
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 发明人 道下尙则 MICHISHITA, NAONORI;土田克之 TSUCHIDA, KATSUYUKI
分类号 H01L21/30(2006.01);H01L21/304(2006.01);H01L21/48(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄陈昭诚
主权项
地址 日本 JP