| 摘要 |
本发明公开一种用于等离子处理装置的导气装置，其气路连通于泵与反应腔之间；导气装置包含：外壳，其设有上下连通的气道，该气道的上端气路连通反应腔，下端气路连通至泵；中心管道，其设置于外壳内的气道中，该中心管道上端气路连通反应腔，下端封闭；该中心管道内形成中心气道，中心管道与外壳之间形成外层气道；若干分隔结构，其由中心管道侧壁连接至外壳的内侧壁，将外层气道分隔成若干个相互连通的外层子气道，外层子气道气路连通泵。本发明导气装置设有分隔装置，可自补偿反应腔与/或泵中其他的不对称性，从而实现等离子处理装置的整体对称性。 |
