发明名称 磁电阻式随机存取记忆体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI499103 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW102111831 申请日期 2013.04.02
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 徐晨佑;刘世昌;蔡嘉雄
分类号 H01L45/00;H01L43/08;G11C11/16 主分类号 H01L45/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种磁电阻式随机存取记忆体装置之制造方法,该磁电阻式随机存取记忆体装置具有多个磁性穿隧接点单位,且该制造方法包括:形成一底导电层;形成一反铁磁层;形成一穿隧层于该底导电层与该反铁磁层上方;形成一磁性自由层于该穿隧层上,该磁性自由层具有对齐于一方向的磁距,且该方向可藉由施加外部电磁力来调整;形成一顶导电层于该磁性自由层上;进行至少一微影制程,移除未被一光阻层遮盖的该底导电层、该反铁磁层、该穿隧层、该磁性自由层及该顶导电层,直到露出该底导电层;以及移除至少一部份的磁性穿隧接点单位之侧壁。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号