发明名称 |
磁电阻式随机存取记忆体装置及其制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI499103 |
申请公布日期 |
2015.09.01 |
申请号 |
TW102111831 |
申请日期 |
2013.04.02 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
徐晨佑;刘世昌;蔡嘉雄 |
分类号 |
H01L45/00;H01L43/08;G11C11/16 |
主分类号 |
H01L45/00 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
一种磁电阻式随机存取记忆体装置之制造方法,该磁电阻式随机存取记忆体装置具有多个磁性穿隧接点单位,且该制造方法包括:形成一底导电层;形成一反铁磁层;形成一穿隧层于该底导电层与该反铁磁层上方;形成一磁性自由层于该穿隧层上,该磁性自由层具有对齐于一方向的磁距,且该方向可藉由施加外部电磁力来调整;形成一顶导电层于该磁性自由层上;进行至少一微影制程,移除未被一光阻层遮盖的该底导电层、该反铁磁层、该穿隧层、该磁性自由层及该顶导电层,直到露出该底导电层;以及移除至少一部份的磁性穿隧接点单位之侧壁。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |