发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR RESIST MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE
摘要 <p>(A) 알칼리 가용성 고분자 30 ∼ 70 질량%, (B) 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 20 ∼ 60 질량%, 및 (C) 광중합 개시제 0.1 ∼ 20 질량% 를 포함하는 레지스트 재료용 감광성 수지 조성물로서, 상기 (B) 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 화합물로서, 분자 내에 적어도 하이드록실기와 페닐기와 2 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 (B-1), 및 분자 내에 에틸렌옥사이드기와 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물 (B-2) 를 포함하는 상기 조성물을 제공한다.</p>
申请公布号 KR101548791(B1) 申请公布日期 2015.08.31
申请号 KR20127007501 申请日期 2010.09.24
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/027;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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