| 摘要 |
Изобретение относится к технологии изготовления катодной мишени для распыления керамического материала, применяемой в получении керамических покрытий в вакууме магнетронным методом на изделиях машиностроения. Сущность изобретения заключается в том, что в качестве основания используют металлическую катодную мишень, отработавшую свой срок применения по назначению на этом магнетронном оборудовании и имеющую минимальное значение толщины материала основания в области её максимального распыления не менее 2 мм. Кроме того, покрытие из распыляемого керамического материала наносят на поверхность металлического основания только по месту распыления материала основания с неравномерной толщиной покрытия, превышающего в 1,5-2,5 раза значение глубины области распыления материала основания при его первоначальном применении на данном магнетронном оборудовании. Распыляемый керамический материал одного состава наносится на правую, а другого состава - на левую часть металлического основания. Перед нанесением покрытия из керамического порошкового материала под ним на металлическое основание наносят, как минимум, один слой согласующего металлического покрытия с толщиной каждого слоя в пределах 0,05-0,10 мм потоком низкотемпературной плазмы путём подачи в поток металлических порошковых частиц. После применения катодной мишени по назначению и распыления керамического покрытия эта катодная мишень повторно используется в качестве металлического основания. Такое техническое решение позволяет повысить коэффициент использования керамического материала и увеличить ресурс применения мишени до её замены в катодном узл� |
